壓克力架的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們挖掘出下列價位、菜單、推薦和訂位總整理

主體.繪畫.客體—洪藝真個展

為了解決壓克力架的問題，作者邱麗卿 這樣論述：

　　西方藝術史對「繪畫性」的研究，源自「畫框」的設置。在畫框之內，世界變成被觀看的圖像客體；在畫框之外，畫家與觀者成為創作與認知的主體。洪藝真重新界定「繪畫性」的意義，保留「畫框」的窗框形式，揚棄畫面內容的主題言說，將作品簡化到「顏料、畫框、畫布」三種基本元素。看似扭曲的畫框與縮水的畫布，是物件複製與肌理再現的創作結果；厚、薄不同的畫框與顏料的流動特性，都在寧靜的空間氛圍裡如實還原。 洪藝真（1971-）早期赴英國學習美術創作，1992至2002年期間先後進入東倫敦大學、皇家藝術學院與瑞丁大學就讀，並於2002年獲得博士學位，現於國立臺南藝術大學材質創作與設計系任教。其作品風格受到美國抽象

主義與極簡主義的影響，強調材料與形式的單純性，運用媒材原來的質感；採用簡單的四邊形，削減具體形像傳達意識的可能性；使用重複或均等分佈的手法，製造畫布與畫布之間理性的對話頻率。 洪藝真近期的展覽是持續發生中的系列事件。2007年伊通公園的「複製─再現 洪藝真個展」，探討「複製即再現的延伸」的觀念，以人工複製的方式將油畫作品翻模處理，精確而完整再現「原作」中細膩的筆觸與畫布原始的肌理。2008年竹師藝術空間的「還原─再現 洪藝真個展」，探討「再現」後「還原」的可能性。2009年在臺北市立美術館「主體．繪畫．客體」的命題，再次向觀眾提問「繪畫性」的辯證關係。「繪畫」一詞既是名詞也是動詞，既是主觀的意

志表現也是客觀的創作載體，於是將「繪畫」置於主體與客體間，在多義的詮釋中擺盪、發展；讓每件作品都是提問，答案則讓觀者自行提供。 本展展出洪藝真2007至2009年的作品19件，全數以「無題」為名，再次讓創作者隱身在作品之後，讓作品自己說話。除了對創作的精準要求，展場也精心規劃為黑白兩色區塊。黑色空間在方形燈光的幽微指引下，作品本身的物質性益發彰顯，玻璃纖維的原作複製、畫布的橫豎條紋、油彩的流動性與烤漆的鮮豔原色，如同物件般的凝結靜止。白色空間架設透明壓克力架，放置用陶土翻模製成的畫布「文件」480片，藝術家邀請觀眾拿起一片砸碎，解構藝術史中對「繪畫」的定義。破碎後的重新拼組能否再現原件？不同參

與者的拼組行為能否得到相同的結果？藉由「事件」的發生，讓觀眾透過主動參與，進而思索藝術家的創作目的。 洪藝真的作品看似簡單，然而所蘊含的能量，讓其作品如肺一般，會呼吸、有起伏。其個人化、手工化、美感化的藝術表現，展現創作者在媒材與作品間靈巧的互動關係，也重新定位繪畫領域中主體與客體的存在價值，並以嚴謹的態度突破現實制約，持續創造深具個人風格的藝術天地。

壓克力架進入發燒排行的影片

應用於折射率感測的穩定封裝之微光纖線圈共振腔與其長時間穩定性提升

為了解決壓克力架的問題，作者呂宣毅 這樣論述：

近來，微光纖線圈共振腔在非線性光學和光纖感測吸引許多目光。和以半導體製作的微共振腔相比，微光纖線圈共振腔擁有例如低傳輸損耗，容易和一般光纖元件結合等特點。透過增加線圈數或堆疊線圈，微光纖線圈共振腔可以達到相當高的品質因子。然而，沒有保護的微光纖線圈共振腔很容易受到外界環境干擾，限制了微光纖線圈共振腔的應用。因此，微光纖線圈共振腔的保護方法是本篇論文的主要焦點。在此論文中，首先我們介紹微光纖線圈共振腔的製作過程和保護方法。我們利用改良的小型光纖抽絲塔，以氫氧焰作為熱源製作直徑3微米的微光纖。接著我們展示微光纖線圈共振腔的製作架構。透過具有超長工作距離的物鏡和CCD元件，我們可以即時觀測繞線過程

，有助於儘早檢測出錯誤。具有良好同心度和穩定性的繞線系統使我們可以準確地控制微光纖線圈共振腔每圈的間隔。我們使用以正己烷稀釋過的聚二甲基矽氧烷作為微光纖線圈共振腔的包裝材料。稀釋過的聚二甲基矽氧烷擁有較低的黏滯性，方便在繞線過程中調整線圈。以此方法製作的微光纖線圈共振腔品質因子可以達到5 x 10^5，而且頻譜表現可以維持5天。接著我們嘗試以聚二甲基矽氧烷包裝之微光纖線圈共振腔進行折射率感測。將微光纖線圈共振腔放置在一壓克力架構中，並以葡萄糖水溶液作為折射率變化。微光纖線圈共振腔的偵測極限為7 x 10^-4。為了增加微光纖線圈共振腔應用的潛力，我們將剩餘微光纖部分以紫外光固化膠覆蓋，進一步提

升微光纖線圈共振腔的穩定性。如此微光纖線圈共振腔的表現可以維持長達一個月沒有明顯劣化。